| 气相法二氧化硅应用机理及特性 |
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| 引用本文： | 方彬,李延国,王刚. 气相法二氧化硅应用机理及特性[J]. 无机盐工业, 2004, 36(5): 50-52 |
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| 作者姓名： | 方彬 李延国 王刚 |
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| 作者单位： | 沈阳化工股份有限公司,辽宁沈阳,110026 |
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| 摘 要： | 主要介绍了气相法二氧化硅在液态体系、干燥体系、固态体系中的作用机理；气相法二氧化硅在应用中的特殊性能；以及比表面积、pH、含水量、添加量、表面处理程度等气相法二氧化硅各项物理性能对应用性能的影响。
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| 关 键 词： | 气相法二氧化硅 硅羟基 消光性 比表面积 |
| 文章编号： | 1006-4990(2004)05-0050-03 |
| 修稿时间： | 2004-06-14 |
The functional mechanism and properties of fumed silica |
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| Fang Bin,Li Yanguo,Wang Gang. The functional mechanism and properties of fumed silica[J]. Inorganic Chemicals Industry, 2004, 36(5): 50-52 |
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| Authors: | Fang Bin Li Yanguo Wang Gang |
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| Abstract: | The functional mechanism of fumed silica in liquid,dry,and solid state system is mainly introduced.The special performance of fumed silica in the application field and the influence of specific surface area,pH,water content,adding volume and surface treatment of fumed silica on the application are also stated. |
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| Keywords: | fumed silica silica hydroxy flatting specific surface area |
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