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镍钼修饰的p型硅电极材料的制备和性能
引用本文:姚素薇,赵转清,张卫国,龚正烈.镍钼修饰的p型硅电极材料的制备和性能[J].材料研究学报,2002,16(1):82-87.
作者姓名:姚素薇  赵转清  张卫国  龚正烈
作者单位:1. 天津大学
2. 天津理工学院
基金项目:国家自然科学基金资助项目69878021
摘    要:在半导体p型Si上恒电流沉积纳米晶和非晶Ni-Mo合金薄膜,制备出Ni-Mo合金修饰的半导体p型Si电极镀层.用SEM对膜层进行了表征,测量了两种电极镀层的阴极催化析氢曲线,纳米晶Ni-Mo/p-Si镀层的催比析氢性能较好,测量了光照下纳米晶Ni-Mo/p-Si电极的催比析氢曲线.结果表明, Ni-Mo颗粒尺寸在40~100nm时,光照下电极的析氢过电位比无光照减小了约160mV(电流密度为8 mA·cm-2),催比析氢活性显著提高.

关 键 词:    修饰  p型硅  电级材料  制备  催化析氢  光照  半导体材料  氢气  制备  光解
文章编号:1005-3003(2002)01-0083-05
修稿时间:2001年3月15日

PREPARATION AND PROPERTY OF Ni-Mo/p-Si ELECTRODE MATERIALS
YAO Suwei,ZHAO Zhuanqing ZHANG Weiguo.PREPARATION AND PROPERTY OF Ni-Mo/p-Si ELECTRODE MATERIALS[J].Chinese Journal of Materials Research,2002,16(1):82-87.
Authors:YAO Suwei  ZHAO Zhuanqing ZHANG Weiguo
Abstract:
Keywords:Ni-Mo/p-Si  nanocrystalline  catalytic property for hydrogen evolution  illumination
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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