| 电化学外延生长亚稳态Co薄膜的结构和磁性表征 |
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| 引用本文： | 李宗木,徐法强,孙秀玉,张文华,王立武.电化学外延生长亚稳态Co薄膜的结构和磁性表征[J].金属功能材料,2007,14(6):5-9. |
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| 作者姓名： | 李宗木 徐法强 孙秀玉 张文华 王立武 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥,230029 |
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| 摘 要： | 用循环伏安法在单晶Cu(110)上沉积了亚稳态fcc相的Co磁性薄膜,并用法拉第定律估算了薄膜的厚度约为17 nm.X射线衍射结果表明薄膜具有(100)的单一取向结构,而用同样方法沉积在多晶Pt片上的Co薄膜则是六方多晶结构.用扫描电子显微镜、X射线以及同步辐射光电子能谱对薄膜的表面形貌、组成以及元素的化学态进行了表征,结果表明循环伏安法制备的薄膜平整连续,Co薄膜没有明显的氧化现象;磁性测量结果表明外延生长的薄膜具有典型的软磁特征,矫顽力约为100 Oe,剩磁比约0.86.软X射线磁性圆二色实验结果计算得到Co薄膜的自旋磁矩和轨道磁矩非常接近于Co体相材料的数据.
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| 关 键 词： | 电化学沉积 循环伏安法 Co磁性薄膜 光电子能谱 电化学 外延生长 亚稳态 薄膜 结构 磁性表征 Epitaxy Electrochemical Films Metastable Structure Magnetism 数据 材料 轨道磁矩 自旋磁矩 结果计算 实验 磁性圆二色 剩磁比 |
| 文章编号： | 1005-8192(2007)06-0005-05 |
| 修稿时间： | 2007年5月28日 |
Characterization of the Magnetism and Structure of Metastable Co Films Grown by Electrochemical Epitaxy |
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| LI Zong-mu,XU Fa-qiang,SUN Xiu-yu,ZHANG Wen-hua,WANG Li-wu.Characterization of the Magnetism and Structure of Metastable Co Films Grown by Electrochemical Epitaxy[J].Metallic Functional Materials,2007,14(6):5-9. |
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| Authors: | LI Zong-mu XU Fa-qiang SUN Xiu-yu ZHANG Wen-hua WANG Li-wu |
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