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一种改进的BiCMOS工艺欠压锁存电路的设计
引用本文:王瑾,田泽,李攀,周密,刘力军,唐宏震.一种改进的BiCMOS工艺欠压锁存电路的设计[J].现代电子技术,2007,30(24):182-184.
作者姓名:王瑾  田泽  李攀  周密  刘力军  唐宏震
作者单位:西北大学,信息科学与技术学院,陕西,西安,710127
基金项目:陕西省西安-美国应用材料创新基金
摘    要:针对DC-DC电源管理芯片中所必需的欠压锁存功能,利用带隙基准电压源的原理,提出一种新的改进的UV-LO(欠压锁存)电路的设计,实现了欠压锁存的阈值点和迟滞量,成功地实现了欠压锁存电路的预定功能。基于0.6μm BiC-MOS工艺,HSpice软件仿真的结果表明所设计的UVLO电路具有结构简单、温度漂移小、功耗低等特点,性能有很大改善,满足了芯片的需要。

关 键 词:欠压锁存  带隙基准  滞回区间
文章编号:1004-373X(2007)24-182-03
收稿时间:2007-06-12
修稿时间:2007年6月12日

Design of an Improved under Voltage Lock Out Circuit Based on BiCMOS Process
WANG Jin,TIAN Ze,LI Pan,ZHOU Mi,LIU Lijun,TANG Hongzhen.Design of an Improved under Voltage Lock Out Circuit Based on BiCMOS Process[J].Modern Electronic Technique,2007,30(24):182-184.
Authors:WANG Jin  TIAN Ze  LI Pan  ZHOU Mi  LIU Lijun  TANG Hongzhen
Abstract:
Keywords:BiCMOS
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