| 光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 |
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| 引用本文： | 李美萱,王美娇,王丽,冷雁冰,董连和.光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析[J].激光与红外,2017,47(7):842-847. |
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| 作者姓名： | 李美萱 王美娇 王丽 冷雁冰 董连和 |
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| 作者单位： | 长春理工大学,吉林 长春 130022;长春理工大学光电信息学院,吉林 长春 130012 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目(No.91338116;No.11474037)资肋 |
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| 摘 要： | 在超大规模集成电路中,为了实现NA=1.35,波长193 nm处分辨率达到45 nm的目标,需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用CODE V软件设计了复眼透镜对引起照明不均匀性的因素进行分析,结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力,给出X和Y向复眼曲率公差为±10%,后组曲率公差为±5%,前后组间隔公差为±50 μm,位置精度偏心公差为±1 μm,装配精度公差为±3 μm。制定公差合理、可行,满足了浸没式光刻照明系统高均匀性、高能量利用率的要求。
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| 关 键 词： | 浸没式光刻 高均匀性照明 分辨率 光学设计 公差分析 |
Design and tolerance analysis of compound eye lens in lithography lighting system |
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| LI Mei-xuan,WANG Mei-jiao,WANG Li,LENG Yan-bing,DONG Lian-he.Design and tolerance analysis of compound eye lens in lithography lighting system[J].Laser & Infrared,2017,47(7):842-847. |
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| Authors: | LI Mei-xuan WANG Mei-jiao WANG Li LENG Yan-bing DONG Lian-he |
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| Affiliation: | Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;College Of Optical And Electronical Information Changchun University of Science And Technology Changchun 130012,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | immersion lithography high uniformity of illumination resolution optical design tolerance analysis |
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