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The evaluation of the technology for depositing NiCr resistive films
Authors:R. Tavzes  E. Kansky  A. Banovec  A. Zalar  M. Gregorič  A. Barna  P. Barna  I. Pozsgai
Affiliation:IEVT Ljubljana, Teslóva 30, Yugoslavia;MÜFI, Budapest, Hungary
Abstract:
Keywords:
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