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The influence of intercrystalline barriers and dislocations on the electron mobility of InSb thin films
Authors:M Le Contellec  J Richard  J Henaff
Affiliation:Département CPM/PMT, CNET, 22301 Lannion France;Département EST/DEF, CNET, 92131 Issy-les-Moulineaux France
Abstract:
Keywords:
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