| 磁控溅射制备纳米Ni-Ti薄膜工艺研究 |
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| 引用本文： | 傅宇东 王刚 刘臣 孟祥龙. 磁控溅射制备纳米Ni-Ti薄膜工艺研究[J]. 稀有金属材料与工程, 2007, 36(A01): 925-927 |
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| 作者姓名： | 傅宇东 王刚 刘臣 孟祥龙 |
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| 作者单位： | [1]哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150001 [2]哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨150001 |
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| 摘 要： | 为了得到高质量的纳米薄膜，对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻璃两种基体材料，并在不同的基体温度、晶化温度、溅射功率等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了XRD，SEM分析。分析结果表明：薄膜成分、厚度、表面形貌、致密度与溅射功率、基体温度、晶化温度、基体材料密切相关。并根据实验结果给出优化的纳米Ni-Ti薄膜制备工艺。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 纳米薄膜 Ni-Ti合金 |
| 文章编号： | 1002-185X（2007）S1-0925-03 |
| 修稿时间： | 2007-02-28 |
Preparation Process of Nano Ni-Ti Alloy Thin Films. by Magnetron Sputtering |
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| Fu Yudong, Wang Gang, Liu Chen, Meng Xianglong. Preparation Process of Nano Ni-Ti Alloy Thin Films. by Magnetron Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering, 2007, 36(A01): 925-927 |
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| Authors: | Fu Yudong Wang Gang Liu Chen Meng Xianglong |
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| Affiliation: | 1. College of Materials Science and Chemical Engineering, Harbin Engineering University, Harbin 150001, China;2. School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nagnetron sputtering nano thin film NiTi alloy |
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