首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

磁控溅射制备纳米Ni-Ti薄膜工艺研究
引用本文:傅宇东,王刚,刘臣,孟祥龙.磁控溅射制备纳米Ni-Ti薄膜工艺研究[J].稀有金属材料与工程,2007,36(A01):925-927.
作者姓名:傅宇东  王刚  刘臣  孟祥龙
作者单位:[1]哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,黑龙江哈尔滨150001 [2]哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨150001
摘    要:为了得到高质量的纳米薄膜,对直流磁控溅射法制备Ni-Ti薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅和玻璃两种基体材料,并在不同的基体温度、晶化温度、溅射功率等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了XRD,SEM分析。分析结果表明:薄膜成分、厚度、表面形貌、致密度与溅射功率、基体温度、晶化温度、基体材料密切相关。并根据实验结果给出优化的纳米Ni-Ti薄膜制备工艺。

关 键 词:磁控溅射  纳米薄膜  Ni-Ti合金
文章编号:1002-185X(2007)S1-0925-03
修稿时间:2007-02-28

Preparation Process of Nano Ni-Ti Alloy Thin Films. by Magnetron Sputtering
Fu Yudong, Wang Gang, Liu Chen, Meng Xianglong.Preparation Process of Nano Ni-Ti Alloy Thin Films. by Magnetron Sputtering[J].Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(A01):925-927.
Authors:Fu Yudong  Wang Gang  Liu Chen  Meng Xianglong
Affiliation:1. College of Materials Science and Chemical Engineering, Harbin Engineering University, Harbin 150001, China;2. School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China
Abstract:
Keywords:nagnetron sputtering  nano thin film  NiTi alloy
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号