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磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析
引用本文:许小亮,王烨,赵亚丽,牟威圩,施朝淑. 磁控溅射法制备的纳米金薄膜的工艺条件和结构分析[J]. 功能材料, 2006, 37(8): 1216-1219
作者姓名:许小亮  王烨  赵亚丽  牟威圩  施朝淑
作者单位:中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026;中国科学院中国科学技术大学,结构分析重点实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026
基金项目:国家自然科学基金 , 安徽省人才基金 , 安徽省高新技术基金
摘    要:通过直流溅射沉积法在玻璃衬底上制备了不同生长条件下的纳米金薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对其进行表面形貌分析.XRD 图显示Au膜具有(111)面择优取向;AFM图显示,在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构.总结了不同的工艺条件对薄膜晶粒生长的影响,这项研究对实现金属薄膜的可控性生长有重要意义.

关 键 词:晶粒生长  纳米金  表面形貌  磁控溅射
文章编号:1001-9731(2006)08-1216-04
收稿时间:2005-11-09
修稿时间:2006-04-12

Growth conditions and structure analysis of nano-Au films prepared by magnetron sputtering
XU Xiao-liang,WANG Ye,ZHAO Ya-li,MOU Wei-wei,SHI Chao-shu. Growth conditions and structure analysis of nano-Au films prepared by magnetron sputtering[J]. Journal of Functional Materials, 2006, 37(8): 1216-1219
Authors:XU Xiao-liang  WANG Ye  ZHAO Ya-li  MOU Wei-wei  SHI Chao-shu
Affiliation:1. Structure Research Laboratory, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China; 2. Department of Physics, University of Science and Technology of China, Hefei 230026,China
Abstract:A series of Au nanometer films were deposited on glass substrates in different condition by magnetron sputtering.The surface morphology of the Au films was observed using the atomic force microscopy(AFM) and the texture was detected by X-ray diffraction(XRD).The favored orientation(111) of the films was certified by XRD patterns.According to the AFM micrographs,microstructure of Au film is different in different courses of film grain growth. To generalize the effect of different preparing conditions on the growth of thin films by date processing,is of great signification to realize the controllable growth of metal films.
Keywords:crystal growth   An film   surface morphology   magnetron sputtering
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