| CNx薄膜的制备和光电性能 |
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| 引用本文： | 张加涛,曹传宝,朱鹤孙.CNx薄膜的制备和光电性能[J].材料研究学报,2003,17(4):432-438. |
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| 作者姓名： | 张加涛 曹传宝 朱鹤孙 |
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| 作者单位： | 北京理工大学材料科学研究中心 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研项目，20171007，1999000718，， |
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| 摘 要： | 以单晶硅片(100)和镀Pt硅片为衬底,用电化学沉积方法在阴极制备出CNx薄膜(x接近于1),薄膜的表面平滑,颗粒均匀.热处理后得到了β-C3N4和α-C3N4多晶结构薄膜.热处理温度的提高使薄膜中的C≡N键逐渐减少而消失,氮元素的流失使薄膜中非晶碳的成分增多,但是薄膜中碳氮逐渐以sp3C-N为主.薄膜的能带在1.1～1.8 eV之间,氮含量对能带大小影响较大.热处理使薄膜的电阻率(高于108Ω@cm)变化不大.氮含量影响PL谱中3.0和3.5 eV处发射峰的峰强,不影响峰位.
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| 关 键 词： | 无机非金属材料 CNx薄膜 电化学沉积 光电性能 |
| 文章编号： | 1005-3093(2003)04-0432-07 |
| 修稿时间： | 2002年9月9日 |
Preparation and photo-electrical properties of CNx films |
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| ZHANG Jiatao CAO Chuanbao ZHU Hesun.Preparation and photo-electrical properties of CNx films[J].Chinese Journal of Materials Research,2003,17(4):432-438. |
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| Authors: | ZHANG Jiatao CAO Chuanbao ZHU Hesun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | inorganic non-metallic materials CNX thin films electrodeposition optical electron- ical properties |
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