| 硅片基底表面修饰及浸润性变化 |
| |
| 引用本文： | 张肖,周玉雪,杜晓蕊.硅片基底表面修饰及浸润性变化[J].广东化工,2022,49(2):1-3. |
| |
| 作者姓名： | 张肖 周玉雪 杜晓蕊 |
| |
| 作者单位： | 天津科技大学理学院 化学系,天津 300457;中国科学院 仿生材料与界面科学重点实验室(理化技术研究所),北京 100190;天津科技大学理学院 化学系,天津 300457 |
| |
| 摘 要： | 固体表面的浸润性是自然界普遍存在的一种性质,在人们的日常生活、工业和农业中具有重要的作用.液体对在固体界面的浸润行为源于固体的表面能和微纳米结构.基于自然界生物的浸润行为,人们对特殊浸润性的功能表面产生了极大地兴趣.近几年来,有关特殊浸润性表面的研究取得了不错的进展.在此,我们讨论了硅片基底表面修饰及其浸润性的变化.通...
|
| 关 键 词： | 硅片 表面 浸润 DNA 侧向力 |
Surface Modification and Wettability of Silicon Wafer Substrate |
| |
| Zhang Xiao,Zhou Yuxue,Du Xiaorui.Surface Modification and Wettability of Silicon Wafer Substrate[J].Guangdong Chemical Industry,2022,49(2):1-3. |
| |
| Authors: | Zhang Xiao Zhou Yuxue Du Xiaorui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
