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尾纤模块研磨轨迹的仿真及实验研究
引用本文:张轩,陈淑英,李慧鹏,宋凝芳. 尾纤模块研磨轨迹的仿真及实验研究[J]. 半导体光电, 2016, 37(1): 197-201
作者姓名:张轩  陈淑英  李慧鹏  宋凝芳
作者单位:中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083;中国科学院半导体研究所 材料科学重点实验室, 北京100083
基金项目:国家自然科学基金项目(61744104).
摘    要:对不同条件下制备的锑化镓抛光晶片表面进行了TOF-SIMS测试比较。结果表明使用体积比为5∶1的HCl与CH3COOH的混合溶液清洗腐蚀(100)GaSb晶片表面, 可以有效地去除金属离子、含S离子和大部分有机物, 而使用 (NH4)2S/(NH4)2SO4混合溶液方法钝化表面,可以使表面大部分Ga和Sb元素硫化, 降低了表面态密度。分析比较了清洗和钝化工艺对晶片表面化学成分的影响。

关 键 词:锑化镓   TOF-SIMS   表面氧化   钝化
收稿时间:2015-02-04

Simulation and Experiment Study of Pigtail Module Grinding Track
Abstract:Simulation and Experiment Study of Pigtail Module Grinding Track
Keywords:GaSb   TOF-SIMS   surface oxidation   passivation
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