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0.2μm T形栅技术在10Gbps激光驱动电路研制中的应用
引用本文:张海英,刘训春,罗明雄,刘洪民,王润梅. 0.2μm T形栅技术在10Gbps激光驱动电路研制中的应用[J]. 半导体学报, 2004, 25(10)
作者姓名:张海英  刘训春  罗明雄  刘洪民  王润梅
基金项目:国家自然科学基金 , 国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:0.2μm T形栅制作技术在100mm GaAs激光驱动电路芯片研制中获得了成功的应用.优化的栅制作工艺保证了形貌良好的栅线条,获得了优良的晶体管直流参数和高频性能.栅工艺重复性好,整片内器件性能均匀一致,确保了电路的成功研制.实际电路测试结果表明,在100mm GaAs片上制备的PHEMT驱动电路的芯片测试合格率达到70%以上,可靠性良好.

关 键 词:GaAs PHEMT  T形栅  激光调制驱动电路  激光驱动  驱动电路  应用  Application  Driver  DWDM  Technology  合格率  芯片测试  PHEMT  测试结果  均匀  器件性能  工艺重复性  高频性能  直流参数  晶体管  栅线  工艺保证  制作技术

Application of 0.2μm T-Shaped Gate Technology in 10Gbps DWDM Driver Circuits
Abstract:
Keywords:
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