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| 光电位法评价铜缓蚀剂 | |
| 作者姓名： | 毛建军 史美伦 |
| 作者单位： | 上海电力学院，上海电力学院，上海电力学院，同济大学 200090 第二军医大学药学院药物分析教研室，200090，200090，200092 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 1 前言 用光电位法研究了铜电极在含有不同浓度缓蚀剂BTA或PTD的3％NaCl硼砂缓冲溶液(pH=9.2)中的腐蚀和缓蚀行为。溶液中不含或含有少量缓蚀剂时铜电极光响应逐渐地从P型转变为n型;当缓蚀剂达到一定量时,电极光响应保持P型。从P→n的转型时间Tt大小可以评价缓蚀剂的效果,实验表明,BTA的缓蚀效果优于PTD,与交流阻抗和椭圆偏振法的结果相符。光电位法是一种简便、有效、有发展前途的评价铜缓蚀剂的方法。 |
| 关 键 词： | 铜 缓蚀剂 光电位法 评价 |
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