首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

一种半绝缘键合SOI新型BCD结构
引用本文:谭开洲,杨谟华,徐世六,刘玉奎,李肇基,刘勇,冯建. 一种半绝缘键合SOI新型BCD结构[J]. 半导体学报, 2007, 28(5): 763-767
作者姓名:谭开洲  杨谟华  徐世六  刘玉奎  李肇基  刘勇  冯建
作者单位:电子科技大学
基金项目:国家微电子预研资助项目
摘    要:提出了一种采用半绝缘SOI的新型BCD结构,该结构把高压大电流VDMOS,CMOS和双极器件同时可靠地集成在一起,其特点是集成了垂直导电的VDMOS.这种结构在汽车电子、抗辐射、强电磁脉冲环境等领域有较好的潜在应用.BCD样品芯片垂直导电VDMOS击穿电压为160V,导通电阻为0.3Ω,比导通电阻为26mΩ·cm2;npn,pMOS,nMOS击穿电压分别为50,35,30V;npn管β为120,ft为700MHz.

关 键 词:BCD  半绝缘SOI  VDMOS  功率集成电路
文章编号:0253-4177(2007)05-0763-05
修稿时间:2006-11-20

A Novel BCD Structure with Semi-Insulation Bonding SOI
Tan Kaizhou,Yang Mohu,Xu Shiliu,Liu Yukui,Li Zhaoji,Liu Yong and Feng Jian. A Novel BCD Structure with Semi-Insulation Bonding SOI[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2007, 28(5): 763-767
Authors:Tan Kaizhou  Yang Mohu  Xu Shiliu  Liu Yukui  Li Zhaoji  Liu Yong  Feng Jian
Affiliation:School of Microelectronics and Solid-State Electronics,University of ElectronicScience and Technology,Chengdu 610054,China;National Laboratory of Analog Integrated Circuits,Chongqing 400060,China;School of Microelectronics and Solid-State Electronics,University of ElectronicScience and Technology,Chengdu 610054,China;National Laboratory of Analog Integrated Circuits,Chongqing 400060,China;National Laboratory of Analog Integrated Circuits,Chongqing 400060,China;School of Microelectronics and Solid-State Electronics,University of ElectronicScience and Technology,Chengdu 610054,China;National Laboratory of Analog Integrated Circuits,Chongqing 400060,China;National Laboratory of Analog Integrated Circuits,Chongqing 400060,China
Abstract:
Keywords:BCD  semi-insulation SOI  VDMOS  power integrated circuit
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号