| 氧化铝粉体在硅溶胶中分散行为的研究 |
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| 引用本文： | 朱新文,江东亮,谭寿洪,张兆泉.氧化铝粉体在硅溶胶中分散行为的研究[J].硅酸盐学报,2001,29(3):263-266. |
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| 作者姓名： | 朱新文 江东亮 谭寿洪 张兆泉 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和 |
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| 摘 要： | 利用ζ电位、沉降实验、流变学测试研究了氧化铝粉体在硅溶胶中的分散行为。研究发现，硅溶胶分散的氧化铝浆料在pH=10附近沉降量低和粘度最小，表明氧化铝在硅溶胶中分散的最佳pH条件为pH=10左右。还发现氧化铝在硅溶胶中分散受硅溶胶浓度的影响较大，其资料贴度随硅溶胶浓度的增加而减小，在其质量分数为10％－15％之间达到最低；当浓度进一步增加时，其粘度呈现微小的增加。为此，本研究指出，氧化铝在硅溶胶中分散机理为静电位阻稳定，这是由于带负电荷的氧化硅胶粒在氧化铝颗粒表面形成一包覆层，增加了颗粒间的静电斥力位能和产生的一种空间斥力位能。
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| 关 键 词： | 氧化铝粉体 硅溶胶 分散行为 流变学 陶瓷 |
| 文章编号： | 0454-5648(2001)03-0263-04 |
| 修稿时间： | 2000年9月26日 |
STUDY OF DISPERSION BEHAVIOR OF ALUMINA POWDERS IN SILICA SOL |
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| Zhu Xinwen,Jiang Dongliang,Tan Shouhong,Zhang Zhaoquan.STUDY OF DISPERSION BEHAVIOR OF ALUMINA POWDERS IN SILICA SOL[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2001,29(3):263-266. |
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| Authors: | Zhu Xinwen Jiang Dongliang Tan Shouhong Zhang Zhaoquan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | alumina silica sol dispersion rheology |
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