亚稳相Ga2O3异质外延的研究进展 |
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引用本文: | 汪正鹏,叶建东,郝景刚,张贻俊,况悦,巩贺贺,任芳芳,顾书林,张荣.亚稳相Ga2O3异质外延的研究进展[J].电子与封装,2023(1):102-114. |
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作者姓名: | 汪正鹏 叶建东 郝景刚 张贻俊 况悦 巩贺贺 任芳芳 顾书林 张荣 |
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作者单位: | 南京大学电子科学与工程学院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(62234007,U21A20503和U21A2071); |
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摘 要: | 作为一种新兴的超宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga2O3)被认为是下一代高功率电力电子器件领域的战略性先进电子材料。相较于热稳定的β-Ga2O3,亚稳相Ga2O3表现出更为新颖的物理性质,逐渐受到关注。通过异质外延生长高质量的亚稳相Ga2O3单晶薄膜是实现亚稳相Ga2O3基功率电子、微波射频和深紫外光电信息感知器件的重要前提。重点阐述了亚稳相Ga2O3的晶体结构、电子能带结构以及相关物理性质,总结了近年来亚稳相Ga2O3异质外延和能带工程的研究进展,并对未来亚稳相Ga2O3材料和器件的发展趋势进行了展望。
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关 键 词: | 超宽禁带半导体 亚稳相Ga2O3 异质外延 能带工程 |
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