| 基底温度对氧化铂薄膜结构与催化性能的影响 |
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| 引用本文： | 沈月,王传军,许彦亭,唐玲,李思勰,闻明.基底温度对氧化铂薄膜结构与催化性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2022,51(9):3466-3472. |
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| 作者姓名： | 沈月 王传军 许彦亭 唐玲 李思勰 闻明 |
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| 作者单位： | 贵研铂业股份有限公司,贵研铂业股份有限公司,贵研铂业股份有限公司,昆明贵研催化剂有限责任公司,贵研铂业股份有限公司,贵研铂业股份有限公司 |
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| 基金项目： | 昆明市科技计划重点项目(2019-1-G-25318000003405)；云南省创新团队项目(2019HC024)；昆明市稀贵金属溅射靶材科技创新团队项目(13020169) |
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| 摘 要： | 氧化铂电极是安全壳内置氢浓度监测传感器的重要元件，因其力学和电催化性不足而使氢传感器处于瓶颈，限制了我国AP1000技术的全面国产化。本文采用反应磁控溅射法在铂基材上成功制备出氧化铂薄膜电极，并探究了不同基底温度对薄膜组成、形貌及电催化性能的影响。结果表明，在Ar/50%O2溅射气氛下可获得由PtO和PtO2组成的氧化铂薄膜。随着温度由室温（RT）升至200℃，非晶态薄膜中氧空位逐渐被修复并转化为晶态，形成具有三维纳米枝晶状、无裂纹的薄膜，其PtO2占比提高，电化学活性面积（ECSA）增加，稳定性提高；而随着温度升至400℃，薄膜中氧空位浓度大幅降低，平均晶粒尺寸进一步增加，PtO2逐步分解为PtO和Pt，ECSA减小，稳定性及氧还原活性降低。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 氧化铂 微观结构 电催化性能 |
| 收稿时间： | 2021/8/9 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2021/11/25 0:00:00 |
Structure and Electrocatalytic Property of Platinum Oxide Films Prepared in Different Substrate Temperature |
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| Shen Yue,Wang Chuanjun,Xu Yanting,Tang Ling,Li Sixie and Wen Ming.Structure and Electrocatalytic Property of Platinum Oxide Films Prepared in Different Substrate Temperature[J].Rare Metal Materials and Engineering,2022,51(9):3466-3472. |
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| Authors: | Shen Yue Wang Chuanjun Xu Yanting Tang Ling Li Sixie and Wen Ming |
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| Affiliation: | Sino-Platinum Metals Co,LTD,Sino-Platinum Metals Co,LTD,Sino-Platinum Metals Co,LTD,Kunming Guiyan Catalyst Co Ltd,Sino-Platinum Metals Co,LTD,Sino-Platinum Metals Co,LTD |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Magnetron sputtering Platinum Oxide Microstructure Electrocatalytic property |
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