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| 磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响 | |
| 引用本文： | 傅宇东,闫牧夫,郭在在,王刚,刘勇.磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响[J].硅酸盐通报,2009,28(Z1). |
| 作者姓名： | 傅宇东 闫牧夫 郭在在 王刚 刘勇 |
| 作者单位： | 1. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨,150001;哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,哈尔滨,150001 2. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨,150001 3. 哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,哈尔滨,150001 |
| 基金项目： | 高等学校博士学科点专项科研基金，中国博士后基金 |
| 摘 要： | 本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究.采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜.之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关.并根据实验结果给出优化的NdFeB薄膜制备工艺. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 NdFeB薄膜 工艺参数 表面形貌 |
Influence of Craft Parameters on Surface Morphology and Microstructure of NdFeB Thin Films |
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| FU Yu-dong,YAN Mu-fu,GUO Zai-zai,WANG Gang,LIU Yong.Influence of Craft Parameters on Surface Morphology and Microstructure of NdFeB Thin Films[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2009,28(Z1). | |
| Authors: | FU Yu-dong YAN Mu-fu GUO Zai-zai WANG Gang LIU Yong |
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