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| 无氧铜基金刚石薄膜场致发射特性研究 | |
| 引用本文： | 曾葆青,杨崇峰.无氧铜基金刚石薄膜场致发射特性研究[J].真空科学与技术,2001,21(1):64-66. |
| 作者姓名： | 曾葆青 杨崇峰 |
| 作者单位： | [1]电子科技大学高能电子学研究所，成都610054 [2]北京真空电子技术研究所，北京100016 |
| 摘 要： | 采用微波等离子体方法在铜片上沉积了多晶金刚石薄膜，用该薄膜制成的场致发射体的开启电压较低，发射电流密度较高。利用自制的场致发射阵列阴极高真空测试台测试了1-100mA/cm^2的发射电流密度特性，对应的电场强度为2.0-3.5MV/m。从拟合F-N公式得到的功函数φ≈0.025eV,所发射电子轰击荧光屏后能产生明亮的光斑。 |
| 关 键 词： | 场致发射 金刚石薄膜 真空微电子学 冷阴极 铜 微波等离子体 |
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