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电感耦合等离子体原子发射光谱法测定碳化硅中杂质元素
引用本文:姚永生.电感耦合等离子体原子发射光谱法测定碳化硅中杂质元素[J].冶金分析,2010,30(7):48-51.
作者姓名:姚永生
作者单位:河南省有色金属地质矿产局第一地质大队;
摘    要:提出了使用电感耦合等离子体原子发射光谱同时测定碳化硅中微量Fe、Al、Ti、Ca、Mg、P、Mn的分析方法。样品用无水碳酸钠与硼酸混合熔剂熔融,硝酸提取,甲醇除硼,氢氟酸挥硅,然后在选定的仪器工作条件下测定。使用基体匹配法来校正基体的干扰。各元素的测定检出限为0.001~0.054μg/mL,相对标准偏差(RSD,n=9)为0.5%~3.7%。经比对试验证明,本法测定值与其他方法测定值相符合。

关 键 词:电感耦合等离子体原子发射光谱法  碳化硅  微量元素  

Determination of impurity elements in silicon carbide by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
YAO Yong-sheng.Determination of impurity elements in silicon carbide by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry[J].Metallurgical Analysis,2010,30(7):48-51.
Authors:YAO Yong-sheng
Abstract:
Keywords:
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