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ICP-AES法测定铱化合物中杂质成分
引用本文:徐锁平,杨萍,高志祥. ICP-AES法测定铱化合物中杂质成分[J]. 冶金分析, 2003, 23(2): 1-1
作者姓名:徐锁平  杨萍  高志祥
作者单位:北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院 北京 100088 ,北京 100088,北京 100088
摘    要:对铱化合物中的常见微量杂质Al,Ba,Au,Pd,Pt,Ru,Rh进行了分析研究。利用ICP-AES仪器的优异性能,通过对基体效应、光谱干扰、酸度影响、等离子体测定条件等方面的考察,确定了在铱基体中共存微量离子的检测条件。各离子的检出限分别为:Pt0.39μg/mL,Pd0.03μg/mL,Al0.051μg/mL,Ba0.0027μg/mL,Au0.025μg/mL,Ru0.045μg/mL,Rh0.13μg/mL。各金属离子回收率:95%~102%。相对标准偏差RSD均小于10%。本文所建立的方法,准

关 键 词:ICP-AES  Ir基体  杂质  
文章编号:1000-7571(2003)02-0020-04
修稿时间:2002-09-11

Determination of common impurity contents in iridic compound by ICP-AES
Abstract:
Keywords:ICP-AES  matrix Ir  impurity ions
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