ICP-AES法测定铱化合物中杂质成分 |
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引用本文: | 徐锁平,杨萍,高志祥. ICP-AES法测定铱化合物中杂质成分[J]. 冶金分析, 2003, 23(2): 1-1 |
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作者姓名: | 徐锁平 杨萍 高志祥 |
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作者单位: | 北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院,北京有色金属研究总院 北京 100088 ,北京 100088,北京 100088 |
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摘 要: | 对铱化合物中的常见微量杂质Al,Ba,Au,Pd,Pt,Ru,Rh进行了分析研究。利用ICP-AES仪器的优异性能,通过对基体效应、光谱干扰、酸度影响、等离子体测定条件等方面的考察,确定了在铱基体中共存微量离子的检测条件。各离子的检出限分别为:Pt0.39μg/mL,Pd0.03μg/mL,Al0.051μg/mL,Ba0.0027μg/mL,Au0.025μg/mL,Ru0.045μg/mL,Rh0.13μg/mL。各金属离子回收率:95%~102%。相对标准偏差RSD均小于10%。本文所建立的方法,准
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关 键 词: | ICP-AES Ir基体 杂质 |
文章编号: | 1000-7571(2003)02-0020-04 |
修稿时间: | 2002-09-11 |
Determination of common impurity contents in iridic compound by ICP-AES |
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Abstract: | |
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Keywords: | ICP-AES matrix Ir impurity ions |
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