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LaAlO3单晶基片上制备Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的透射电镜研究
引用本文:田焕芳,朱小红,虞红春,刘立宝,陈寒元,张怀若,周玉清,郑东宁,李建奇.LaAlO3单晶基片上制备Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的透射电镜研究[J].电子显微学报,2004,23(4):400-400.
作者姓名:田焕芳  朱小红  虞红春  刘立宝  陈寒元  张怀若  周玉清  郑东宁  李建奇
作者单位:1. 中国科学院物理研究所北京电子显微镜实验室,北京,100080
2. 中国科学院物理研究所超导国家重点实验室,北京,100080
3. 中国科学院物理研究所北京电子显微镜实验室,北京,100080;哈尔滨工业大学(威海),山东,威海,264209
摘    要:铁电钛酸锶钡(Ba1-xSrx)TiO3(BSTO)薄膜材料具有很好的可调性,在微电子工业有广阔的应用前景。本文采用脉冲激光沉积(PLD)技术在(001)LaAlO3单晶基片上外延生长了Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜。利用透射电子显微镜对薄膜的截面样品进行了微结构和界面行为的研究。

关 键 词:铁电材料  钛酸锶钡薄膜材料  铝酸镧晶体  脉冲激光沉积法  透射电子显微镜

Transmission electron microscopy study of the Ba0.5Sr0.5TiO3 thin films on single crystal LaAlO3
Abstract:
Keywords:
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