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激光聚焦扫描扇区掩模制作光电码盘新方法
引用本文:赵立新,胡松,王肇志,罗正全.激光聚焦扫描扇区掩模制作光电码盘新方法[J].微细加工技术,2007(6):8-11.
作者姓名:赵立新  胡松  王肇志  罗正全
作者单位:中国科学院光电技术研究所,成都,610209
摘    要:为了改进光电码盘的制作工艺,提高效率,降低成本,提出了一种光电码盘的光刻方法.通过计算机控制激光聚焦扫描扇区掩模制作来选择扇区掩模的码道,采用光学光刻的方法制作码盘,取消了传统码盘光刻的精缩物镜和穿孔带.同时,扫描光斑远大于直写光斑,大大提高了加工效率.阐述了高斯光斑的腰束半径与扫描步距的关系,分析了扫描场能量分布的不均匀度,并给出了曝光实验的光刻效果.结果表明,该方法能够满足光电码盘的制作要求,成功地取代了光电码盘的传统制作方法,具有很好的工程应用前景.

关 键 词:光电码盘  扇区掩模  高斯光斑  聚焦扫描
文章编号:1003-8213(2007)06-0008-04
修稿时间:2007年8月1日

A Novel Fabrication of Photoelectrical Encoder by Laser Focus Scanning Fan-mask
ZHAO Li-xin,HU Song,WANG Zhao-zhi,LUO Zheng-quan.A Novel Fabrication of Photoelectrical Encoder by Laser Focus Scanning Fan-mask[J].Microfabrication Technology,2007(6):8-11.
Authors:ZHAO Li-xin  HU Song  WANG Zhao-zhi  LUO Zheng-quan
Abstract:
Keywords:
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