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真空热蒸发制备ZnS薄膜及其特性的研究
引用本文:权乃承,高斐,孙杰,刘立慧,郝培风.真空热蒸发制备ZnS薄膜及其特性的研究[J].电源技术,2010,34(1).
作者姓名:权乃承  高斐  孙杰  刘立慧  郝培风
作者单位:陕西师范大学,物理学与信息技术学院,陕西,西安,710062
基金项目:陕西省自然科学基础研究计划项目(2005F37)
摘    要:用真空热蒸发在不同衬底温度下制备了ZnS薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱(EDAX)、紫外可见分光光度计(UV-vis)和原子力显微镜(AFM)研究了ZnS薄膜的晶体结构、成分、光学性能和形貌,分析了衬底温度对ZnS薄膜结构与光学特性的影响。结果表明,所制备的ZnS薄膜呈立方闪锌矿结构,衬底温度为300℃所制备的ZnS薄膜原子比(S/Zn)为0.95/1;薄膜表面均匀致密,呈多晶态,晶粒尺寸为18.2nm;在可见区有好的透射性能,光学禁带宽度为3.82eV。

关 键 词:ZnS薄膜  热蒸发  光学带隙  Burstin-Moss效应  

Preparation of ZnS thin films by thermal evaporation and study of its properties
QUAN Nai-cheng,GAO Fei,SUN Jie,LIU Li-hui,HAO Pei-feng.Preparation of ZnS thin films by thermal evaporation and study of its properties[J].Chinese Journal of Power Sources,2010,34(1).
Authors:QUAN Nai-cheng  GAO Fei  SUN Jie  LIU Li-hui  HAO Pei-feng
Abstract:
Keywords:ZnS thin film  thermal evaporation  optical band gap  Burstin-Moss effect  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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