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| Nb/Al-AlOx/Nb约瑟夫森结薄膜沉积研究 | |
| 引用本文： | 高鹤,王仕建,徐达,李劲劲,王雪深,钟青.Nb/Al-AlOx/Nb约瑟夫森结薄膜沉积研究[J].计量学报,2023(5):765-770. |
| 作者姓名： | 高鹤 王仕建 徐达 李劲劲 王雪深 钟青 |
| 作者单位： | 中国计量科学研究院前沿计量科学研究中心 |
| 摘 要： | Nb/Al-AlOx/Nb约瑟夫森结构成的低温超导器件有着广泛应用，高质量的S-I-S约瑟夫森结制备的关键之一在于制备高质量的三层膜。三层膜的质量可由许多属性参数影响，比如剩余电阻比R.R.R、超导转变温度Tc、表面粗糙度、应力、铝膜厚度等等。通过对薄膜的溅射沉积条件与上述参数进行分析研究，确定最佳的生长条件。调节不同的氧化工艺条件，可以获得约瑟夫森结的不同临界电流密度。 |
| 关 键 词： | 计量学 约瑟夫森结 Nb/Al-AlOx/Nb三层薄膜沉积 直流磁控溅射 氧化工艺 |