| 半导体化学溶液的浓度控制 |
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| 引用本文： | 张正荣,汪辉. 半导体化学溶液的浓度控制[J]. 电子与封装, 2008, 8(1): 33-36 |
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| 作者姓名： | 张正荣 汪辉 |
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| 作者单位： | 上海交通大学微电子学院,上海,200030;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,上海,201203;上海交通大学微电子学院,上海,200030 |
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| 摘 要： | 在半导体制造工艺中,湿法清洗和刻蚀技术是其中重要的组成部分。文章着重介绍了半导体湿法清洗和刻蚀技术中化学品的化学配比和相关用途,并且重点讲述了化学品浓度控制的重要性及其常用的控制方式。
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| 关 键 词： | 半导体制造 湿式清洗 湿式蚀刻 湿式化学品 |
| 文章编号： | 1681-1070（2008）01-0033-04 |
| 收稿时间： | 2007-07-16 |
| 修稿时间： | 2007-07-16 |
Wet Chemical Concentration Control in Semiconductor Industry |
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| ZhANG Zheng-rong,WANG Hui. Wet Chemical Concentration Control in Semiconductor Industry[J]. Electronics & Packaging, 2008, 8(1): 33-36 |
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| Authors: | ZhANG Zheng-rong WANG Hui |
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| Abstract: | In Semiconductor Industry, Wet Cleaning and etching are the most important component. This paper focused on the Wet Chemical Concentration and related function, especially emphasized on the importance of Chemical Concentration control and their methods. |
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| Keywords: | semiconductor manufacturing wet cleaning wet etching wet chemicals |
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