首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     


Elimination of chuck-related parasitics in MOSFET gate capacitance measurements
Authors:Kraus  PA Ahmed  KZ Williamson  JS  Jr
Affiliation:Front End Products Group, Appl. Mater. Inc., Santa Clara, CA, USA;
Abstract:
Keywords:
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号