KH-570原位改性纳米二氧化硅的制备与表征 |
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引用本文: | 王亚红,洪勇波,赵梦婷,王念贵. KH-570原位改性纳米二氧化硅的制备与表征[J]. 胶体与聚合物, 2019, 0(1): 26-28 |
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作者姓名: | 王亚红 洪勇波 赵梦婷 王念贵 |
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作者单位: | 湖北大学化学化工学院 |
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摘 要: | 以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法制备纳米二氧化硅溶胶,再用γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)对其进行改性,得到KH-570改性的纳米二氧化硅。采用红外光谱(FT-IR)、粒径分析、透射电镜(TEM)以及热重分析(TG)等对原料及产物进行表征。结果表明:KH-570能够成功改性纳米二氧化硅,改性后的纳米二氧化硅尺寸主要分布在30~115nm。
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关 键 词: | 正硅酸乙酯 γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷 纳米二氧化硅 原位改性 |
Preparation and Characterization of KH-570 In-situ Modified Nano-SiO_2 |
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Affiliation: | (College of Chemistiy and Chemical Engineering, Hubci University, Wuhan 430062) |
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Abstract: | WANG Ya-hong;HONG Yong-bo;ZHAO Meng-ting;WANG Nian-gur(College of Chemistiy and Chemical Engineering, Hubci University, Wuhan 430062) |
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Keywords: | EthylOrthosilicate γ-(mehacryloxy)Propyl Trimethoxysilane Nano-silica In-situ Modification |
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