| N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨莎莎,杨峰,陈明辉,牛云松,朱圣龙,王福会.N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响[J].金属学报,2019,55(3):308-316. |
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| 作者姓名： | 杨莎莎 杨峰 陈明辉 牛云松 朱圣龙 王福会 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所 沈阳110016;中国科学技术大学材料科学与工程学院 沈阳110016;沈阳理工大学装备工程学院 沈阳110159;东北大学沈阳材料科学国家研究中心东北大学联合研究分部 沈阳110819;中国科学院金属研究所 沈阳110016 |
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| 基金项目： | 国家重点研发计划;国家自然科学基金;中央高校基本科研业务费专项 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射技术,以AISI304不锈钢为基体,通过在溅射过程中引入不同流量的N2,制备出不同程度N掺杂的Ta涂层,研究了少量N掺杂对Ta涂层微观结构、物相组成、力学及磨损性能的影响。结果表明,无N掺杂时,Ta涂层中的物相组成为α-Ta,晶粒粗大,(211)和(110)晶面竞争生长;N掺杂后涂层中的物相组成为TaN0.1,晶粒细小并呈(110)择优取向。少量N掺杂可以显著提高Ta涂层的硬度和弹性模量,并大幅度改善其抗磨损性能。涂层硬度和弹性模量的提高与晶粒细化、N原子固溶及涂层中存在的压应力有关。N掺杂后涂层的磨损机制由磨粒磨损向黏着磨损转变。
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| 关 键 词： | Ta涂层 磁控溅射 N掺杂 磨损 |
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