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超声技术在硅湿法腐蚀中的应用
引用本文:曾毅波,王凌云,谷丹丹,孙道恒.超声技术在硅湿法腐蚀中的应用[J].光学精密工程,2009,17(1).
作者姓名:曾毅波  王凌云  谷丹丹  孙道恒
作者单位:1. 厦门大学,萨本栋微机电研究中心,福建,厦门,361005
2. 厦门大学,机电工程系,福建,厦门,361005
基金项目:国家自然科学基金,福建省科技计划重点项目,留学回国人员科研启动基金,厦门大学新世纪优秀人才基金 
摘    要:为了获得平滑的硅湿法腐蚀表面,在硅湿法腐蚀中引入超声技术.对超声湿法腐蚀系统进行了改进,以确保腐蚀溶液的顶部和底部温差在0.5 ℃之内.采用60 ℃,10 %质量分数的KOH溶液,在超声频率为59 kHz,超声功率为60~180 W(间隔10 W)条件下对(100)硅片进行湿法腐蚀.最后,运用激光共聚焦扫描显微镜(LSCM)对腐蚀后硅片表面粗糙度进行测量,并探讨超声参数的选择对腐蚀表面质量的影响.实验结果表明:超声功率在120 W时,可以获得平滑的腐蚀表面,表面粗糙度Rq值为0.020 μm.在湿法腐蚀系统中采用超声技术,可以明显改善腐蚀表面质量,在较低温度和较低浓度的KOH溶液中,选择合适的超声参数可获得高品质的腐蚀表面.

关 键 词:湿法腐蚀  超声技术  表面粗糙度  激光共聚焦扫描显微镜  微机电系统

Application of ultrasonic technology to wet etching of silicon
ZENG Yi-bo,WANG Ling-yun,GU Dan-dan,SUN Dao-heng.Application of ultrasonic technology to wet etching of silicon[J].Optics and Precision Engineering,2009,17(1).
Authors:ZENG Yi-bo  WANG Ling-yun  GU Dan-dan  SUN Dao-heng
Affiliation:1.Pen-Tung Sah Micro-electro-mechanical System Research Center;Xiamen University;Xiamen 361005;China;2.Department of Mechanical and Electrical Engineering;China
Abstract:
Keywords:
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