首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

光学浮区法生长掺铟氧化镓单晶及其性能
摘    要:采用光学浮区法生长了尺寸f(7~9 mm)×(30~35 mm)的β-Ga_2O_3:In单晶。X射线衍射物相分析表明,β-Ga_2O_3:In单晶仍属于单斜晶系。研究了不同In掺杂量的β-Ga_2O_3:In单晶的吸收光谱和电学性能。结果表明:与纯β-Ga_2O_3单晶相比,β-Ga_2O_3:In单晶在红外波段存在明显吸收。β-Ga_2O_3:In单晶的电导率在10~(–2)量级,Holl载流子浓度可以达到6×10~(19)/cm~2,说明掺杂In~(3+)对β-Ga_2O_3单晶的电学性能有明显改善。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号