| 在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究 |
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| 引用本文： | 满卫东,汪建华,王传新,马志斌,王升高,刘远勇. 在CH4-H2微波等离子体中添加H2O对大面积金刚石膜生长的研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2005, 0(6): 16-19 |
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| 作者姓名： | 满卫东 汪建华 王传新 马志斌 王升高 刘远勇 |
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| 作者单位： | 1. 武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;中国科学院等离子体物理研究所,合肥,230031
2. 武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073 |
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| 摘 要： | 用自制的微波功率为5千瓦的微波等离子体（MWCVD）装置，研究了在CH4-H2反应气体中添加安全廉价的H2O代替O2金刚石膜的沉积状况，以H2／CH4／H2O作为反应气体，成功制备了厚度达到1．1毫米，面积达20平方厘米的金刚石厚膜。在沉积温度为700-900℃范围内，研究了CH4／H2=3.0％，H2O／H2=0．0-2．4％范围内金刚石膜沉积的速率，均匀性，形貌以及质量的变化规律。研究结果表明，在反应气体CH4／H2中添加适量H2O能降低金刚石膜中非金刚石碳的含量，提高金刚石膜厚度的均匀性，并对反应气体中添加H2O对CVD金刚石膜生长影响机理进行了阐述。
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| 关 键 词： | 金刚石膜 微波 化学气相沉积 生长 |
| 文章编号： | 1006-852X(2005)06-0016-04 |
| 修稿时间： | 2005-07-02 |
Effects of water addition to the CH4-H2 feed gas on large-area diamond deposition by microwave plasma |
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| Man Weidong,Wang Jianhua,Wang Chuanxin,Ma Zhibin,Wang Shenggao,Liu Yuanyong. Effects of water addition to the CH4-H2 feed gas on large-area diamond deposition by microwave plasma[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2005, 0(6): 16-19 |
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| Authors: | Man Weidong Wang Jianhua Wang Chuanxin Ma Zhibin Wang Shenggao Liu Yuanyong |
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| Affiliation: | Man Weidong~ |
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| Keywords: | diamond film microwave chemical vapor deposition growth |
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