首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

硅基LiNbO3薄膜的微结构研究
引用本文:卢焕明,叶志镇,黄靖云,汪雷,赵炳辉. 硅基LiNbO3薄膜的微结构研究[J]. 无机材料学报, 2005, 20(4): 971-975
作者姓名:卢焕明  叶志镇  黄靖云  汪雷  赵炳辉
作者单位:浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金重大研究计划(90101009);浙江省留学回国基金(20046)
摘    要:利用透射电子显微镜及X射线衍射,研究脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(001)衬底上生长LiNbO3薄膜的微结构.结果表明,在600℃的衬底温度、30Pa的氧分压条件下,在硅片表面5nm厚的非晶氧化层上生长的薄膜,为c轴择优取向的单相LiNbO3晶体,本文还讨论了获得c轴择优取向LiNbO3薄膜的生长机理.

关 键 词:LiNbO3薄膜 透射电子显微镜 PLD技术
文章编号:1000-324X(2005)04-0971-05
收稿时间:2004-05-11
修稿时间:2004-11-29

Microstructure of LiNbO3 Thin Films Grown on Silicon Substrates by Pulsed Laser Deposition
LU Huan-ming,YE Zhi-zhen,HUANG Jing-yun,WANG Lei,ZHAO Bing-hui. Microstructure of LiNbO3 Thin Films Grown on Silicon Substrates by Pulsed Laser Deposition[J]. Journal of Inorganic Materials, 2005, 20(4): 971-975
Authors:LU Huan-ming  YE Zhi-zhen  HUANG Jing-yun  WANG Lei  ZHAO Bing-hui
Affiliation:StateKeyLaboratoryofSiliconMaterials;ZhejiangUniversity;Hangzhou310027;China
Abstract:
Keywords:LiNbO3  transmission electron microscopy  pulsed laser deposition
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《无机材料学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《无机材料学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号