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钽铝薄膜中功率衰减器的设计
引用本文:贾宇明,杨邦朝,刘强,曲喜新. 钽铝薄膜中功率衰减器的设计[J]. 仪器仪表学报, 1999, 20(2): 210-212
作者姓名:贾宇明  杨邦朝  刘强  曲喜新
作者单位:电子科技大学,成都,610054
摘    要:介绍了一种用于微波电路的中功率薄膜衰减器的设计与制作。该衰减器是由铝原子含量为50%的Ta/Al合金薄膜制成。测试结果表明其性能优良。

关 键 词:Ta/Al合金薄膜  衰减器  中功率  设计

Design a Middling-power Ta/Al Thin Film Attenuator
Jia Yuming,Yang Bangchao,Liu Qiang,Qu Xixin. Design a Middling-power Ta/Al Thin Film Attenuator[J]. Chinese Journal of Scientific Instrument, 1999, 20(2): 210-212
Authors:Jia Yuming  Yang Bangchao  Liu Qiang  Qu Xixin
Abstract:In this paper,design and fabracation of a middling-power thin film attenuator for microwave circuits are described. The attenuator is made from a Ta/Al thin film which contains aluminium of 50%. Finally, the rneasured data of experiment indicates that the attenuator has high performance.
Keywords:Ta/Al alloy thin film Attenuator Middling-power Design
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