| Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层 |
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| 引用本文： | 耿学文,李美成,尚春宇.Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层[J].红外与激光工程,2010,39(6). |
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| 作者姓名： | 耿学文 李美成 尚春宇 |
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| 基金项目： | 国家教育部新世纪优秀人才支持计划 |
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| 摘 要： | 制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率.基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型(100)单晶硅表面溅射了一层厚度为1～5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300～800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构.通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高.研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路.
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| 关 键 词： | 硅衬底 减反射层 纳米粒子 催化荆 |
Platinum nanoparticles-assisted chemical wetting produces an antireflective coating on silicon surface |
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| GENG Xue-wen,LI Mei-cheng,SHANG Chun-yu.Platinum nanoparticles-assisted chemical wetting produces an antireflective coating on silicon surface[J].Infrared and Laser Engineering,2010,39(6). |
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| Authors: | GENG Xue-wen LI Mei-cheng SHANG Chun-yu |
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