| 离子辅助沉积TiO2光学薄膜的特性 |
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| 引用本文： | 范滨,唐骐. 离子辅助沉积TiO2光学薄膜的特性[J]. 光学仪器, 2004, 26(2): 64-70 |
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| 作者姓名： | 范滨 唐骐 |
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| 作者单位： | 株式会社光驰,琦玉县,川越市,350-0801;株式会社光驰,琦玉县,川越市,350-0801 |
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| 摘 要： | 阐述了用离子辅助沉积(IAD)工艺制备氧化钛(TiO2)光学薄膜的光学、应力及微观特性,并讨论了其与离子辅助沉积成膜工艺参数之间的相互关系。
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| 关 键 词： | 氧化钛光学薄膜(TiO2) 离子辅助沉积(IAD) 散射 应力 微观结构 |
| 文章编号： | 1005-5630(2004)02-0064-07 |
| 修稿时间： | 2003-11-30 |
Properties of TiO2 film deposited by IAD process |
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| FAN Bin,TANG Qi. Properties of TiO2 film deposited by IAD process[J]. Optical Instruments, 2004, 26(2): 64-70 |
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| Authors: | FAN Bin TANG Qi |
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| Abstract: | The optical, stress and microstructure properties of TiO_2 film deposited by ion assisted deposition process were described in this paper. The relationship between these properties with IAD coating conditions was discussed. |
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| Keywords: | TiO_2 IAD Scattering Stress Microstructure |
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