| 外延纳米金刚石膜及其场发射特性 |
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| 引用本文： | 王维彪,顾长志,纪红,彭红艳,赵海峰,张传平.外延纳米金刚石膜及其场发射特性[J].液晶与显示,2003,18(3):164-168. |
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| 作者姓名： | 王维彪 顾长志 纪红 彭红艳 赵海峰 张传平 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130021
2. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130023 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资项目(50072029) |
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| 摘 要： | 研究了纳米金刚石外延薄膜的制备方法及其场发射特性。采用电泳方法将粒径20nm以下的纳米金刚石微品沉积到Ti电极衬底上，用热丝CVD方法在纳米金刚石微晶薄膜上再外延生长一层含非晶碳金刚石薄膜。用Raman光谱研究了外延纳米金刚石薄膜的结构并在高真空条件下研究了其场发射特性。
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| 关 键 词： | 纳米金刚石膜 场发射特性 制备方法 薄膜 外延生长 电子发射均匀性 冷阴极材料 |
| 文章编号： | 1007-2780(2003)03-0164-05 |
| 修稿时间： | 2002年10月31 |
Field Emission Properties of Epitaxial Diamond Film |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diamond nano-grits epitaxy field emission |
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