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| 采用激光检查光刻掩模的缺陷 | |
| 引用本文： | 疾风.采用激光检查光刻掩模的缺陷[J].微纳电子技术,1975(11). |
| 作者姓名： | 疾风 |
| 摘 要： | 富士通研究所最近发明了一种完全自动的激光光束扫描型的光刻掩模检查法。这种方法是采用激光光束在光刻掩模上进行扫描。只要光刻掩模有缺陷,就会从缺陷处产生紊乱的拆射光,并在布郎管上显示出缺陷的位置。在实验中采用此法能够发现甚至1微米左右的缺陷。此法据说具有完全实用的特点。该研究所正在研究将这种方法用于集成 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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