| 真空微电子器件应用研究 |
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| 引用本文： | 张连俊,罗恩泽.真空微电子器件应用研究[J].信息技术与信息化,2001(4):41-42. |
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| 作者姓名： | 张连俊 罗恩泽 |
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| 作者单位： | 1. 山东工程学院,淄博,255012
2. 西安电子科技大学,西安,710071 |
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| 摘 要： | 本文叙述了场致发射的机理及几种不同类型场致发射阴极的特点,并对场致发射技术在真空微电子器件方面的应用进行了分析.
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| 关 键 词： | 场致发射 场发射阴极 类金刚石薄膜 真空微电子器件 |
| 修稿时间： | 2001年4月11日 |
Research of Vacuum Microelectronic Device Apply |
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| ZHANG,Lian-jun,LUO En-ze.Research of Vacuum Microelectronic Device Apply[J].Information Technology & Informatization,2001(4):41-42. |
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| Authors: | ZHANG Lian-jun LUO En-ze |
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| Affiliation: | ZHANG Lian-jun LUO En-ze |
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| Abstract: | In this paper the theory of field electron emission and the characteristics of field emission emitters are introduced. The application of field emission device is studied. |
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| Keywords: | Field emission Field emission emitter Diamond - like thin film Field emission device |
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