具有划时代意义的电子束曝光法

据日刊《电子展望》1977年7月报导,日本川崎市VLSI技术研究组合共同研究所,最近成功地研制了新式电子束描画装置,它用可变尺寸矩形电子束方式,能对任意大小的矩形一次曝光。由于无需一点一点地扫描,所以描画时间比用点状电子束对矩形一点一点地扫描缩短了一倍。普通电子束描画装置与电视的阴极射线管扫描方式相同,要把收缩很细的图形电子束的直径缩小到图形最细部位的1/4以下,用扫描对其描画。描画大面积图形时,需多次扫描,用大量时间描画是实际上最大的障碍。