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| 高能离子注入技术的应用 | |
| 引用本文： | 黑井隆.高能离子注入技术的应用[J].微细加工技术,1992(4):9-14. |
| 作者姓名： | 黑井隆 |
| 摘 要： | 1 前言 最近,利用MeV级高能离子注入直接向半导体衬底的深部掺杂的技术已经在实际中应用。在提高注入的均匀性和缩短热处理周期方面都超过了以往离子注入的水平,为器件的制作带来了新的手段。高能离子注入在LSI工艺的以下几个方面开始获得应用:注入剂量为 |
| 关 键 词： | 高能离子注入 应用 离子注入 |
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