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灿芯半导体研发出基于中芯国际0.11微米和0.13微米工艺的USB2.0OTGPHY
摘    要:灿芯半导体(上海)有限公司(以下简称“灿芯半导体”)日前宣布基于中芯国际集成电路制造有限公司(简称“中芯国际”)的0.11微米和0.13微米工艺平台成功开发了USB2.0物理层设计(PHY),该设计为采用USB2.0的器件提供了尺寸更小、性能更好以及更经济的解决方案。

关 键 词:中芯国际集成电路制造有限公司  0  13微米工艺  USB2  0  半导体  0  13微米工艺  研发  物理层  设计
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