| 磁控溅射TiO2薄膜的相结构转变温度 |
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| 引用本文： | 梅海林,唐立丹,王冰,董国建. 磁控溅射TiO2薄膜的相结构转变温度[J]. 金属热处理, 2016, 41(9): 48. DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2016.09.010 |
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| 作者姓名： | 梅海林 唐立丹 王冰 董国建 |
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| 作者单位： | 辽宁工业大学 材料科学与工程学院 |
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| 基金项目： | 国家教育部重点项目（2012031）；辽宁省自然科学基金（201204916）；辽宁省人才基金（LJQ2013068）；辽宁省教育厅创新团队（LT2013014） |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射制备了TiO2致密薄膜，并通过退火处理实现TiO2的相转变，采用扫描电镜，X射线衍射等手段对薄膜相结构进行表征并做了详细的分析，结果表明，退火后TiO2薄膜结构致密，表面呈现出大小均匀的纳米晶粒。400 ℃退火时，TiO2薄膜为单一的锐钛矿相，500～600 ℃退火时为锐钛矿和金红石混合相，700 ℃以上退火时则完全转变为金红石相。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 TiO2薄膜 退火 |
Transition temperature of phase structure of TiO2 thin films prepared by magnetron sputtering |
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| Mei Hailin,Tang Lidan,Wang Bing,Dong Guojian. Transition temperature of phase structure of TiO2 thin films prepared by magnetron sputtering[J]. Heat Treatment of Metals, 2016, 41(9): 48. DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2016.09.010 |
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| Authors: | Mei Hailin Tang Lidan Wang Bing Dong Guojian |
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| Affiliation: | School of Materials Science and Engineering, Liaoning University of Technology |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering TiO2 thin films annealing |
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