| 纳米制造和测量技术产业化的研究 |
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| 引用本文： | 李文萍,顾文琪. 纳米制造和测量技术产业化的研究[J]. 光电工程, 2006, 33(12): 15-18,22 |
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| 作者姓名： | 李文萍 顾文琪 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039;中国科学院电工研究所,北京,100080 |
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| 摘 要： | 从加工尺度的连续性和加工技术的完整性这一新的角度，分析了纳米加工产业化面临的问题，并提出了相应的解决方案一多离子柬聚焦投影技术。多离子柬聚焦投影技术将填补传统微机加工技术和半导体图形技术之间0．5～5μm的加工空白，并会在1～100nm尺度间实现自上至下技术和自下至上技术的有机结合。纳米测量技术产业化的研究中，以提高扫描探针技术的样品质量作为出发点。在聚焦离子束和扫描电镜平台上集成Ar离子束的“三束”显微镜能有效降低样品的损伤，大大推动了纳米测量技术的发展。
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| 关 键 词： | 多离子束聚焦投影 掩模板 纳米制造 纳米测量 |
| 文章编号： | 1003-501X（2006）12-0015-04 |
| 收稿时间： | 2006-04-22 |
| 修稿时间： | 2006-04-222006-10-13 |
Research on industrialization of nanofabrication and nanometrology |
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| LI Wen-ping,GU Wen-qi. Research on industrialization of nanofabrication and nanometrology[J]. Opto-Electronic Engineering, 2006, 33(12): 15-18,22 |
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| Authors: | LI Wen-ping GU Wen-qi |
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| Affiliation: | 1. Institute of Electrical Engineering, the Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China; 2. Graduate School of the Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Projection focused ion multi-beam Mask plate Nanofabrication Nanometrology |
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