|
|||||
|
|
| 光致抗蚀剂的干式显影工艺 | |
| 引用本文： | 吕洪久.光致抗蚀剂的干式显影工艺[J].化工新型材料,1981(8). |
| 作者姓名： | 吕洪久 |
| 摘 要： | 东京应化工业公司在千叶大学药学部津田穰助教授的协助下,开发成功了完全不用显影液等药物进行的光致抗蚀剂(感光树脂)的干式显影工艺,年内将正式出售成套装置。印制集成电路和大规模集成电路用的感光树脂的干式显影达到商品化,这在世界上还是首次。光致抗蚀剂有正负两种类型,它同照相一样,是用湿式显影方式处理的。但因负型抗蚀 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |