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纳米结构PZT铁电膜的制备及其表征
引用本文:朱信华,宋晔,杭启明,朱健民,周舜华,刘治国. 纳米结构PZT铁电膜的制备及其表征[J]. 功能材料, 2010, 41(11)
作者姓名:朱信华  宋晔  杭启明  朱健民  周舜华  刘治国
作者单位:南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093;南京大学,物理学院,固体微结构物理国家重点实验室,江苏,南京,210093
基金项目:国家自然科学基金资助项目,国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目,教育部回国留学人员科研启动基金资助项目,江苏省自然科学基金资助项目
摘    要:采用溶胶-凝胶(sol-gel)自旋涂敷法在硅基氧化铝纳米有序孔膜版介质上(膜版孔径尺寸20~100nm,内生长金属纳米线作为底电极一部分)制备Pb(Zr0.53Ti0.47)O3(PZT)纳米结构铁电膜,并对其介电、铁电性能及微结构进行了表征。介电测量结果表明,厚度25nm的PZT铁电膜,其介电常数在低频区域(频率104Hz)从860迅速下降到100,然后保持在100左右,直至测量频率升高到106Hz。低频区域的介电常数迅速下降是由空间电荷极化所致,它与薄膜和电极之间聚集的界面空间电荷密切相关,尤其是在薄膜与Au纳米线的弯曲界面处。介电损耗在4000Hz附近出现峰值,它来源于空间电荷的共振吸收效应。电滞回线测量结果表明,厚度为100nm的PZT铁电膜,其剩余极化强度为50μC/cm2,矫顽场强为500kV/cm。剖面透射电镜(TEM)像表明PZT纳米铁电膜与底电极(金属纳米线)直接相接触,它们之间的界面呈现一定程度的弯曲。在PZT纳米铁电薄膜后退火处理后,发现部分Au金属纳米线顶端出现分枝展宽现象;而改用Pt纳米线后可有效抑制这种现象。为兼顾氧化铝纳米有序孔膜版内的金属纳米线有序分布及PZT纳米膜的结晶度,选择合适的退火温度是制备工艺中的关键因素。

关 键 词:PZT  纳米结构  铁电膜  制备  物性及微结构表征

Fabrication of nanostructured PZT ferroelectric thin films and their characterization
ZHU Xin-hua,SONG Ye,HANG Qi-ming,ZHU Jian-min,ZHOU Shun-hua,LIU Zhi-guo. Fabrication of nanostructured PZT ferroelectric thin films and their characterization[J]. Journal of Functional Materials, 2010, 41(11)
Authors:ZHU Xin-hua  SONG Ye  HANG Qi-ming  ZHU Jian-min  ZHOU Shun-hua  LIU Zhi-guo
Abstract:
Keywords:
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