| 基于X光光刻的亚波长光栅 |
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| 引用本文： | 李以贵,杉山进. 基于X光光刻的亚波长光栅[J]. 纳米技术与精密工程, 2007, 5(4): 249-252 |
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| 作者姓名： | 李以贵 杉山进 |
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| 作者单位： | 上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030;日本立命馆大学微系统系,京都,525-8577 |
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| 摘 要： | 描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术，即X光光刻得到相应的亚微米级的线宽图形，再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长光栅．用此纳米加工技术获得了栅距为500nm、250nm、150nm，光栅高度为1900nm的特殊纳米光栅模具，开发了纳米无反射结构，并研制成功了亚波长光栅．该亚微米线宽微细加工技术可用于布拉格光栅、DVD读写头、无反射表面等需要亚微米结构的器件中．
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| 关 键 词： | 亚波长光栅 X光光刻 高深宽比 |
| 文章编号： | 1672-6030(2007)04-0249-04 |
| 修稿时间： | 2007-08-16 |
Sub-Wavelength Gratings Based on X-Ray Lithography |
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| LI Yi-gui,SUGIYAMA Susumu. Sub-Wavelength Gratings Based on X-Ray Lithography[J]. Nanotechnology and Precision Engineering, 2007, 5(4): 249-252 |
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| Authors: | LI Yi-gui SUGIYAMA Susumu |
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| Abstract: | |
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