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| ZnO陶瓷靶制备及其薄膜 RF溅射工艺研究 | |
| 引用本文： | 陈祝,张树人,杜善义,杨成韬,郑泽渔,李波,孙明霞. ZnO陶瓷靶制备及其薄膜 RF溅射工艺研究[J]. 无机材料学报, 2006, 21(4): 1011-1017. DOI: 10.3724/SP.J.1077.2006.01011 |
| 作者姓名： | 陈祝 张树人 杜善义 杨成韬 郑泽渔 李波 孙明霞 |
| 作者单位： | 1. 成都信息工程学院通信工程系,成都,610225;电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054 2. 电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054 3. 哈尔滨工业大学复合材料研究所,哈尔滨,150001 |
| 摘 要： | 利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10-15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2．2mol％,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并采用所制备的ZnO-Li2.2％陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)／Ti／SiO2／Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜,其绝缘电阻率ρ为4．12×108Ω·cm,达到了声表面波器件(SAW)的使用要求． |
| 关 键 词： | 陶瓷靶 氧化锌薄膜 射频磁控溅射 择优取向 |
| 文章编号： | 1000-324X（2006）04-1011-07 |
| 收稿时间： | 2005-08-01 |
| 修稿时间： | 2005-08-012005-09-15 |
Li-doped ZnO Ceramic Target Preparation and RF Magnetron Sputtering ZnO Films |
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| CHEN Zhu,ZHANG Shu-Ren,DU Shan-Yi,YANG Cheng-Tao,ZENG Ze-Yu,LI Bo,SUN Ming-Xia. Li-doped ZnO Ceramic Target Preparation and RF Magnetron Sputtering ZnO Films[J]. Journal of Inorganic Materials, 2006, 21(4): 1011-1017. DOI: 10.3724/SP.J.1077.2006.01011 | |
| Authors: | CHEN Zhu ZHANG Shu-Ren DU Shan-Yi YANG Cheng-Tao ZENG Ze-Yu LI Bo SUN Ming-Xia |
| Affiliation: | 1.DepartmentofTelecommunicationEngineering,ChengduUniversityofInformationTechnology,Chengdu610225,China;2.SchoolofMicroelectronicsandSolidStateElectronics,UniversityofElectronicScienceandTechnologyofChina,Chengdu610054,China;3.CenterforCompositeMaterials.HarbinInstituteofTechnology,Harbin150001,China |
| Abstract: | |
| Keywords: | ceramic target zinc oxide films RF magnetron sputtering preferred orientation |
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