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| Ta场发射特性的实验研究 | |
| 引用本文： | 杨德清,王勇.Ta场发射特性的实验研究[J].微细加工技术,1990(4):14-17. |
| 作者姓名： | 杨德清 王勇 |
| 作者单位： | 云南大学物理系 (杨德清，王勇)，云南大学物理系(陈尔纲) |
| 摘 要： | 本文报道了钽(Ta)场发射尖端的制作方法和场发射特性的实验结果。并与单晶钨(W〔111〕)比较,发现Ta的场发射特性不仅与W〔111〕很相似,而且还别具自己特点。特别是能在6.6×10~(-8)帕(5×10~(-8)托)较低真空下稳定的工作。表明Ta可望成为一种较理想的场发射材料,具有广泛应用和开发前景。 |
| 关 键 词： | Ta 发射材料 电子枪 场发射 |
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